東芝は3月23日、NAND型フラッシュメモリの生産能力増強を目的に、同社四日市工場に300mmウェハ対応施設となる第5棟を2010年7月より建設することを発表した。

すでに同工場では第4棟まで稼働しており、第5棟についても以前より計画されていたが、2008年秋の世界的な金融危機などの影響による需要低迷などにより、着工時期がずれ込んでいた。今回建設を決定した理由として同社は、スマートフォンなどの新しいアプリケーションを中心とした需要の増加傾向や、中長期的に見た場合にも市場拡大が見込めるという判断を行ったとしている。

第5棟の竣工は2011年春を予定。免震構造を採用するとともに、クリーンルームの省エネや工場廃熱の有効利用による燃料消費削減などを通してCO2の排出量を第4棟比で12%削減する計画だ。

なお、具体的な投資内容や生産能力、生産計画などについては、市場動向を踏まえ、順次決定していくとしている。