ゼネラル、半導体マイクロ波発振電源を利用したプラズマ表面改質装置を開発

ゼネラルは、半導体マイクロ波発振電源を利用したプラズマ表面改質装置を開発し、同装置を9月25日~28日にベルギー・ブリュッセルにて開催される「Labelexpo Europe 2017」と、10月3日~6日に東京ビッグサイトにて開催される「JAPAN PACK 2017 日本国際包装機械展」に出展することを発表した。

プラズマ照射画像

プラズマ表面改質装置とは、これまで印字が困難であった媒体表面(未処理OPP、離型フィルム等)への印字が可能となることを目的としたもの。従来の同装置として、プラズマ生成に発振周波数13.56MHzの高周波電源を使用するタイプや、発振周波数2.45GHzのマグネトロンを使用するタイプなどがあるが、いずれのシステムも大型であり、大量の電力を消費する。

しかし、今回ゼネラルが開発したプラズマ表面改質装置は、発振周波数2.45GHzの半導体マイクロ波発振電源を用いて生成した大気圧非平衡プラズマを、対象物に照射することで表面処理を行う。この半導体マイクロ波発振電源は従来のマグネトロンと比較すると非常に小型・軽量で、かつ精密なマイクロ波の発振制御が可能となっており、これらの特徴を取り込むことで、システムの小型化・軽量化・省電力化を実現したという。

同社では、小型化を実現したことで、今後は設置場所を選ぶことなく、さまざまな用途への展開が期待できるとしている。

表面改質処理の前後

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