仏Letiなど、高いセキュリティを実現できる高解像度な指紋センサを開発

フランス原子力庁の電子・情報技術研究所(CEA-Leti)は9月5日(欧州時間)、同研究所が陣頭指揮する欧州の研究開発プロジェクト「ピエゾエレクトリック・ナノワイヤ・マトリックス(PIEZOelectric nanowire MATrices:PiezoMAT)」が、米国連邦捜査局(FBI)が要求している解像度の2倍の解像度を実現した圧力ベースの指紋センサを開発したと発表した。

同指紋センサは、200mmのシリコンウェハ基板上に成長させた圧電酸化亜鉛(ZnO)の垂直ナノワイヤのマトリックスを圧力センサとして用いて、人間の指紋を1,000ドット/インチ(DPI)を超える解像度で読み取る仕組みである。

200mmのシリコンウェハ基板上に成長された圧電酸化亜鉛(ZnO)垂直ナノワイヤ(左)と、それを相互配線したマトリックス(右) (出所:PiezoMAT)

同プロジェクトでは、シード層プロセスの最適化、良好な配向のZnOナノワイヤのシリコン基板上への局所成長、複雑な電荷生成の数学的モデリング、カプセル化のための新たなポリマーの合成など、いくつかの重要な分野における先端研究の知見を得ることができたとしており、今後は、信頼性の高いセキュリティやIDへの応用に向けた実用化を目指すとしている。

なお、PiezoMATは、EU委員会により第7次フレームワークプログラムの一環として設立され、欧州の総力を挙げた産官学連携共同研究プロジェクトとして運営されてきたが、今回の発表をもって終了となった。プロジェクトの期間は2013年~2017年の足掛け5年で、その間の総予算は290万ユーロであった。メンバーは仏Letiのほか、独Fraunhofer IAF 、アイルランドTyndall National Institute、ハンガリーCentre for Energy Research(Hungarian Academy of Sciences付属機関)の4研究機関のほか、独Leipzig大学、リトアニアKaunas工科大学の2大学、ならびに仏SPECIFIC POLYMERS、仏OT-Morphoの2社で構成されていた。

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