ルネサス エレクトロニクスは5月28日、Taiwan Semiconductor Manufacturing(TSMC)と40nm 組み込みフラッシュメモリプロセス技術分野での協業関係を拡大することで合意したと発表した。

すでに同社はTSMCと90nmプロセス採用マイコンの製造委託については合意しており、今回の協業強化によりフラッシュマイコン分野でのエコシステムの構築を進め、新たなマイコン顧客の創造とマイコン市場の拡大を目指すとしている。

具体的にはルネサス那珂工場とTSMCのFab12の双方で90nmおよび40nmプロセスを採用したフラッシュマイコンの製造を行い、製品デリバリのフレキシビリティの向上ならびに災害などの緊急時の供給確保の実現を目指す。

またルネサスでは、2012年内に28nmプロセス採用のフラッシュマイコンの開発に着手予定とするほか、TSMCも今回のエコシステムをマイコン分野のみならずSoCの領域にも拡大していきたいとしている。

なお、40nmプロセスを採用したフラッシュマイコンは2012年度末(2013年3月)に産業/民生アプリケーション向けにサンプル出荷を開始することを予定している。

握手を交わすTSMCのスペシャルティー・テクノロジー担当ディレクターのチェンミン・リン氏(左)とルネサス エレクトロニクス執行役員兼MCU事業本部長の岩元伸一氏(右)