半導体製造装置大手のApplied Materials(AMAT)は、欠陥レビューSEM(走査電子顕微鏡)として「Applied SEMVision G5」を発表した。

同装置は、半導体の量産環境で歩留まりを低下させる20nmサイズの欠陥を無人で画像化・分析することが可能なもので、画素サイズ1nmの精度で重要な欠陥を識別・画像化する機能により、欠陥の根本原因を正確に突き止めてロジックやメモリの製造を円滑化することができるようになると同社では説明している。

画素サイズは1nmと同クラスの装置の中で最高クラスで、強力な分析エンジンにより検出が難しいパターニング層の欠陥識別・分析・検出に対応しつつスループットを落とさずに使用することが可能だ。

また、ニューサンス欠陥と呼ばれる非重要欠陥を重要欠陥と区別する性能も従来機を上回る性能を実現しており、テストでは熟練した人間のオペレータよりも正確かつ高速で欠陥を検出できることが示されたという。

なお、同装置はオープンアーキテクチャを採用したプラットフォームで、ウェハ検査装置からのデータと事前定義されたレビューストラテジのライブラリを組み合わせることで、新しいレビューレシピを自動で生成することが可能となっている。

AMATの次世代欠陥レビューSEM「Applied SEMVision G5」