ウシオ電機は同社100%子会社である独XTREME technologies製DPP方式のEUV光源が、ベルギーIMEC(Interuniversity Microelectronics Centre)が採用することを決定したことを明らかにした。

XTREMEは、22nmプロセス世代以降の半導体製造に対応するDPP方式EUV光源の量産を目指し、オランダ国境近くのアールスドルフに新工場を建設、12月10日に開所式を実施、同席上にて、2011年春にIMECが同社のDPP方式EUV光源を導入することを公表した。

12月10日に開所式が行われたXTREMEのアールスドルフ新工場

DPP(Discharge Produced Plasma)方式は放電で生成するプラズマからEUV光を発光させる光源で、DPP方式以外にレーザで生成するプラズマからEUV光を得るLPP方式(Laser Produced Plasma)もあり、2方式の間で開発競争が行なわれている。

IMECには、デバイスメーカーのほか、半導体製造装置、マスクやレジストなどの部材/素材メーカーなどが多数参加しており、すでに2010年7月にXTREMEが買収したPhilips EUVが開発した実験機用のDPP方式EUV光源を稼働させており、今後はXTREME製の量産試作機用DPP光源を用いて、EUVによる半導体製造プロセスの検証が行われることとなる。

なお、すでにXTREMEは複数台の量産試作機用DPP方式EUV光源を受注しており、今回導入が決定されたIMECもこのうちの1台に含まれるとしている。