露光装置メーカーである蘭ASML Holdingは10月15日、同社の露光装置「TWINSCAN」に新たなプラットフォーム「TWINSCAN NXT」を追加したことを発表した。

NXTは、32nmプロセス以降のデバイス量産に向け、ダブルパターニング技術に最適化したArF液浸リソグラフィプラットフォームで、従来のアーキテクチャを拡張しつつ、ウェハステージ技術として新たに「プラナーウェハステージ」を導入している。

同ステージは、従来のデュアルステージと比べ、軽量化を実現したほか、オーバーヘッドを低減する設計を採用することで、加速度が向上、位置制御(ステッピング)時間の短縮を実現している。そのため、初期段階で従来比30%以上の生産性向上が見込めるとしており、同社では今後複数世代に適用していく計画だ。

また、新たな位置測定システムを導入することで、ウェハステージの位置制御精度が現行のシステムと比べ向上し、重ね合わせ精度では50%の向上を達成している。