凸版印刷とIBMは20日、先端プロセスに対応したフォトマスクの開発を目指した共同開発契約を締結したと発表した。

凸版印刷とIBMは2005年より45nmプロセスに対応したフォトマスクの共同開発を開始、2007年にはその活動の範囲を32nmプロセスの初期量産に向けた開発へと拡大してきた。

今回の新たな共同開発契約に基づき、両社が開発を行ってきた32nmプロセス対応フォトマスク製造プロセスの最終フェーズとして、凸版が朝霞工場で開発を進めてきた32nmプロセス対応フォトマスクの製造プロセスが統合されることになる。

また同契約には、22nmプロセス対応のフォトマスク製造プロセスの開発も含まれており、IBMでは同共同開発を通じて、ArF液浸リソグラフィの技術革新を追及するとしている。

なお、両社による共同開発は2008年6月中に、米バーモント州エセックス・ジャンクションに位置するIBMのバーリントン・フォトマスク工場にて開始される予定。