露光装置メーカーASMLの子会社であるBrion Technologiesは26日、同社の計算機リソグラフィプラットフォーム「Tachyon」の性能を向上させた「Tachyon 2.5」を発表した。また、併せてArF液浸リソグラフィのダブルパターニング用ソリューション「Tachyon DPT」を発表した。
Tachyon 2.5は、システムの性能強化、ファームウェアの性能向上、高速プロセッサの採用などにより、計算処理能力を従来機比150%増を達成、ダブルパターニングなどの低k1解像度強化技術(RET)の採用を支援する。
またTachyon DPTは、同社のダブルパターニング技術を採用しており、既存のSource-Mask Optimizer(SMO)機能と併せることで22nmプロセスまでのデバイス開発に対応する。設計からリソグラフィまでのソリューションを提供しており、ダブルパターニング技術「リソDPT(リソグラフィ-エッチング-リソグラフィ-エッチング)」ならびに「スペーサーDPT」を支援する。
なお、Tachyon DPTは即日提供を開始、Tachyon 2.5は2008年6月からの提供が予定されている。
