米AMD、インドの研究開発拠点を拡大 - 広さ5万2,000平方フィートのR&D施設

    富永ジュン  [2007/11/30]

    米AMDは29日(現地時間)、半導体設計と最新のプラットフォーム研究開発(R&D)施設をインド・バンガロールに開設したと発表した。

    今回の新施設開設は、同社初の45nmクアッドコア・プロセッサ「Shanghai」で主導的役割を果たすなど、同社の研究開発ネットワークにおけるインドの役割と重要性の高まりを受けたもの。現在も増え続け、そして今後も増加が見込まれるバンガロールの従業員を余裕を持って受け入れられる施設が必要との意見が高まっていた。

    同施設は、最先端のオフィス空間で構成され、多くの近代的アメニティ施設を備えることで総合的な労働環境を高めていて、最終的には5万2,000平方フィートもの広さになるとされている。なお、同社のバンガロール旧オフィスでは引き続き、管理部門、販売部門、マーケティング部門のスタッフが業務を継続する。

    AMD Indiaのマネージングディレクタのアロック・オーリー氏は「AMDのインド拠点は、わずか6年間で市場シェアを獲得し、グローバルな研究開発業務に大きく貢献した。AMD Indiaの拡大は、インドの研究開発チームの能力に対するAMDの信頼を示している」 とコメントしている。

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