ウシオ電機、EUV光源開発の独Xtremeに資本参加

ウシオ電機が独Xtreme Technologiesへの資本参加を明らかにした。6月27日に独レーザメーカーLambda Physikと、Xtremeの50%の資本持ち分を買い取る契約で合意。7月8日に、契約に基づいた諸手続が完了したという。

Xtremeは、Lambdaと光学部品メーカーのJenopticの共同出資で、2001年に設立された。13.5nmという波長が非常に短い超紫外線(EUV: Extreme Ultraviolet)を用いて、シリコンウエハに微細な回路イメージを焼き付ける次世代のリソグラフィ技術用の光源を開発している。欧州の研究開発プログラムMEDEA+や国際機関ISTCのEUV光源開発プロジェクトに参画。2004年には世界最高出力となる50Wを達成した。

資本参加により、ウシオ電機は今後Extremeと共同でEUV光源装置の開発を進め、2007年末までの実機用EUV光源の市場投入を目指す。現在、量産が立ち上がっている90nmプロセスでは、波長193nmのArFレーザが利用されているが、すでに太い筆を使って細い線を引いている状態であり、45nmノードよりも微細な半導体の製造にはEUVリソグラフィのような新技術が必要になると言われている。同社によると、EUV光源の世界の市場規模は2016年には1,000億円に達すると見込まれている。



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