ロバート・S・チャウ氏

インテルは、昨日発表した20ナノゲート長のトランジスタについて、ロジック開発・トランジスタ研究などを担当するロバート・S・チャウ氏を招いての発表会を行った。

発表されたトランジスタについては先日お伝えしたとおりだが、具体的には、2007年を目処に10億個のトランジスタを集積し、クロック周波数20GHz・電圧1V以下で動作するプロセッサを開発する予定であることが明らかにされた。今回は発表されたトランジスタの概観写真も展示され、改めてその小ささが確認できた。

発表されたトランジスタはゲート長20ナノメートルという超小型のものであるが、大きさ以上に注目に値するのが、従来のコンピューターチップと同一の物理構造及び材料での製造であるということ。現在、半導体の原料はシリコンが主流だが10年のうちに限界が来るといわれており、カーボンナノチューブをはじめとした次世代のコンピュータチップ原料についても研究が進められていた。しかし、今回インテルが発表したトランジスタは同社の半導体としては3世代後のものにあたりながらも、既存の製造工程で製造できるということは量産化に向けて大きなアドバンテージになると見られる。

DNAとのサイズ比較　小ささが分かる対比写真だ

ゲート長20ナノメートルのトランジスタ

チャウ氏は、「1つのチップに集積できるトランジスタ数は18～24カ月で2倍になる」というムーアの法則について、「今回発表できたトランジスタ技術によって、2007年には10億個のトランジスタを搭載したプロセッサを市場へ投入することができます。ムーアの法則は今後も有効です」と、今後もムーアの法則に沿った形でのプロセッサ開発が行われるとの考えを示した。

ムーアの法則に基づいたインテルの半導体開発を示す図

また、そうして得たプロセッサパワーについては、リアルタイム翻訳システム、自然言語や手書き入力といった新しいインタフェース、人の動きを"予測"するコンピュータなど現在よりも遙かに使いやすく、便利なコンピューターには今よりももっとパワフルなプロセッサが必要だと述べた。

同社では今後も157ナノメートルおよびEUV露光技術といったマスク・露光技術、新しいトランジスタ材料、新配線およびパッケージング技術といった半導体製造の各ジャンルにおいて研究を進めており、「ムーアの法則を推進する上で根本的な障害はまだ見つかっていない」としている。

インテル
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