半導体リソグラフィ(露光)技術に関する世界最大の国際会議、「31st International Symposium Microlithography (Microlithography 2006)」のカンファレンスが2月20日(米国時間)に米国シリコンバレーで始まった。20日における現地の様子をお届けする。

プレビュー記事でもすでに述べたが、Microlithography 2006は、下記に示す6つのカンファレンスで構成されている。

1. Emerging Lithographic Technologies(将来のリソグラフィ):2月21～23日開催
2. Metrology, Inspection, and Process Control(検査と管理):2月20～23日開催
3. Advances in Resist Materials and Processing Technology(レジスト関連):2月20～22日開催
4. Optical Microlithography(光リソグラフィ):2月21～24日開催
5. Data Analysis and Modeling for Patterning Control(データ分析とモデリングによるパターン補正):2月23日開催
6. Design and Process Integration(設計と製造の連携):2月23～24日開催

カンファレンス初日である20日は、午前にMicrolithography 2006全体のプレナリ講演が、午後には(3)のAdvances in Resist Materials and Processing Technology(レジスト関連)が開催された。(3)に用意された会場は少なくとも800名は座れると見られる巨大なものであったにも関わらず、立ち見が出るほどの盛況振りだった。

明日21日と明後日の22日には、Microlithography 2006のもう一つの柱である、展示会(Exhibition)が開催される。半導体露光装置やレジスト、光源、マスク、レンズ、検査装置、ソフトウエアツールなどのベンダーによる最新の製品が展示される。